Casa> Lista de Produto> Produtos de tungstênio> Placa de Tungstênio> Folha de placa de liga de cobre de tungstênio W70Cu30
Folha de placa de liga de cobre de tungstênio W70Cu30
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Folha de placa de liga de cobre de tungstênio W70Cu30
Folha de placa de liga de cobre de tungstênio W70Cu30

Folha de placa de liga de cobre de tungstênio W70Cu30

$1000≥10Kilogram

Tipo de pagamento:L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western UnionL/C,T/T,D/P,Paypal
Incoterm:FOB,CFR,CIF,EXW,FCA,CPT,CIPFOB,CFR,CIF,EXW,FCA,CPT,CIP
Quantidade de pedido mínimo:10 Kilogram
transporte:Ocean,Land,Air
porta:Tianjing,Qingdao,Shanghai
Atributos do produto

marcaZhipu

Lugar De OrigemChina

Embalagem & Entrega
Unidades de venda : Kilogram
Tipo de pacote : Embalagem ou caixa de madeira para exportação
Descrição do produto


Baoji Zhipu co de processamento de metais não ferrosos., Ltd foi criada em 2003 e especializada no processamento profundo do campo de metais refratários. Em 13 anos, temos nos concentrado em peças de usinagem de acabamento de tungstênio, molibdênio e tântalo na indústria de aplicação de vácuo, especialmente em forno a vácuo, forno atmosférico e forno de alta temperatura. Nós acumulamos bastante experiência e tecnologia em pesquisa e desenvolvimento de tecnologia, transformação de forno, troca técnica de estrutura de forno a vácuo e exploração tecnológica de processamento profundo de metais refratários e temos sido o principal fornecedor de material de forno a vácuo e sala de aquecimento. Agora, a Zhipu Company é concedida a uma empresa de alta tecnologia, Shaanxi bem conhecida marca registrada e é autorizada pela empresa mundial de terceiros ---- TUV Rhineland Germany. Até agora, nossos ativos totais têm 93 milhões de Yuan e 117 funcionários, entre eles, 8 engenheiros seniores e técnicos, 36 funcionários técnicos intermediários e mais de 63% dos funcionários acima do diploma de ensino superior. Placa de tântalo de alta pureza 99,95%

Nos últimos anos, de acordo com a mudança e demanda do novo mercado, a empresa tem cooperado com a universidade nacional e instituto de pesquisa e estabelecido centro de pesquisa e desenvolvimento de tecnologia, visando na pesquisa de equipamentos fotovoltaicos, equipamentos de safira intética e peças de fornos de metais refratários. Nossos produtos têm vários ramos de série: peças de tungstênio, molibdênio e tântalo em todos os tipos de fornos de alta temperatura; Folha de tântalo de corda de fio de tungstênio Boa estabilidade Tântalo Foiland outros produtos da série para puxar o método de todos os tipos de crescimento de cristal semicondutor; tungstênio, molibdênio, tântalo 99,95% Placa de tântalo puro e metais refratários de nióbio, barras, fios, tubos; vários diafragmas e eletrodos. Agora, temos 20 patentes e algumas das tecnologias e produtos são preenchidos em branco nacional.

Barra de tântalo



Alvo de barra de liga de nióbio de tungstênio puro R04251 à venda para venda são os principais produtos de nossa empresa.
O material dela pertence a metais refratários, e a barra de nióbio industrial de 99,95% para venda tem o ponto de fusão alto de tungstênio puro. portanto, a característica do alvo de pulverização catódica de tungstênio puro para venda é a resistência a altas temperaturas.

Baoji Zhipu Metais não ferrosos Processing Co., Ltd Novíssimo Nióbio Baris um dos mais famosos fabricantes e fornecedores de produtos de tungstênio na China, bem-vindo ao atacado de produtos baratos de tungstênio de nossa empresa e fábrica. Placa de Nióbio de Novo Produto

Informações do produto Diafragma de tântalo de alta pureza 99,95%


Product Name Pure tungsten sputtering target for sale
Grade W1, W2
Purity W≥99.95%
Flatness 0.1mm ~ 0.15% max
Brand Name ZHIPU
Origin China, Shannxi, Baoji
Application Mainly used for coating, sputtering materials
Placa de Nióbio Nb1

High purity Niobium sputtering target

High purity Niobium sputtering targetPure Niobium Target

High purity Niobium sputtering targetHigh purity Niobium sputtering targetHigh purity Niobium sputtering targetHigh purity Niobium sputtering targetHigh purity Niobium sputtering target



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